2024年8月15日，萨尔瓦多在第153号官方公报上公布了一部新的立法，从而在推动知识产权事业改革的进程中迈出了重要的一步。这部法律整合了该国现有的知识产权法规，并会在几个月后，即2025年2月15日生效。

与《商标和其他显著标志法》以及之前的《知识产权法》所建立起的、拥有30年历史的知识产权框架相比，这项立法可谓是一个重大且受到有关各方欢迎的转变。以前的法律仅涉及版权、相关权以及其他与发明专利、实用新型、工业品外观设计有关的工业产权。

新法律建立起了一个全面的知识产权制度，以下是这部新法律的主要亮点：

成立中央知识产权研究所：这部法律在国家注册中心（CNR）内部设立了萨尔瓦多雷诺知识产权研究所（ISPI），并在一个统一的框架下简化了知识产权活动。该研究所将会取代知识产权注册处。

公开（第121条）：目前，新的知识产权申请会在官方公报和全国发行的主流报纸上对外进行公开。现在，这项新法律创建了一份专门面向知识产权出版物的知识产权公告。在收到授予商标通知后的4个月内，并在申请人支付了相应费用后，ISPI将在这个指定的知识产权公告中以电子方式公开商标申请。

扩大商标的构成范围（第107条）：新法律扩大了商标的定义，这是一个值得人们称道的举措。经过调整的新定义现在将保护范围扩大到了非显著性商标，例如味觉和纹理。

升级后的保护事项以及新的时间表

商标和其他显著标志

商号（第171条）：新法律要求每10年续展一次商号，而之前的法律可以提供无限期的保护。注册的有效期为自注册之日起后的10年，并可续展相同的期限。为了续展商号，申请人必须要证明对其进行了使用。在新法律生效之前就已完成注册的商号将会自其注册之日起保持10年的注册期。

商业广告标志（第166条）：同样地，商业广告标志的有效期是自注册之日起后的10年，而旧法案的保护期是无限制的。人们进行续展时必须证明对其进行了使用。在新法案生效之前就已注册的标志，其保护期是自注册之日后的10年。

 特许经营合同（第140条）：新法律现在提供了注册特许经营合同的可能性。许可证的持有人还可以注册许可证以使用注册商标。

撤销商标（第144条、第111条）：新法律现在允许利益相关方提起诉讼，以要求撤销注册商标。在此之前，法律规定人们需要在法院提起此类诉讼。

以“成为通用商标”为由撤销商标（第145条）：除上述内容外，利益相关方还可以基于商标（商品或服务）已成为通用商标为由而申请撤销该商标。

域名（第316条）：如果显著性标志申请包含域名，申请人必须在申请注册时提供证明其使用的文件。但是，提交此类文件并不能保证立即就可获得批准，因为上述申请仍将接受审查，以确保其未侵犯到属于任何其他显著性标志或现有公司名称的权利（第112条e款）。

专利和工业品外观设计

工业品外观设计（第249条）：工业品外观设计的保护期已从旧法案中的10年延长到了15年。续展日期将从提交申请之日起计算。专利所有人还必须每5年支付一次维持费。

博拉豁免（第209条）：新法案现在引入了有关博拉豁免的明确定义，以澄清何时可以就专利侵权指控进行抗辩。

不能受到保护的发明（第197条g款）：根据新的法律，已经获得专利的产品或程序不能仅仅因为现在的用途与原始专利的用途不一样就可再次获得专利。

鼓励知识产权保护的计划（第324条）：这项新的法律为各种实体带来了豁免优惠和灵活性，例如属于国家的机构和市政当局可免缴官方费用，而高等教育机构、在国家文化工作者和艺术注册处注册的个人以及寻求知识产权保护的小微企业主可免除50%的官方费用。

萨尔瓦多新修订的立法旨在鼓励该国国内和国际企业投资和保护其知识产权。通过使保护知识产权的法律框架变得更加现代化，该法律为申请人提供了一个更加清晰、更加现代的框架。